集成电路布图设计登记
什么是集成电路布图设计？
集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。
集成电路布图设计（以下简称布图设计），是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。
布图设计专有权登记产生
布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生。未经登记的布图设计不受保护。
申请布图设计登记应当提交下述材料：
1.布图设计登记委托书：
2.布图设计登记申请表：
（一）申请人的姓名或者名称、地址或者居住地；
（二）申请人的国籍；
（三）布图设计的名称；
（四）布图设计创作者的姓名或者名称；
（五）布图设计的创作完成日期；
（六）该布图设计所用于的集成电路的分类；
（七）布图设计登记申请有保密信息的，含有该保密信息的图层的复制件或者图样页码编号及总页数；
（八）附加文件及样品清单。
3.布图设计的复制件或者图样目录及图样：
布图设计的复制件或者图样应当符合下列要求：
（一）复制件或者图样的纸件应当至少放大到用该布图设计生产的集成电路的20倍以上。
（二）复制件或者图样有多张纸件的，应当顺序编号并附具目录；
（三）复制件或者图样的纸件应当使用A4纸格式；如果大于A4纸的，应当折叠成A4纸格式。
4.装有布图设计复制件或者图样数据盘：
申请人可以同时提供该复制件或者图样的电子版本；提交电子版本的复制件或者图样的，应当包含该布图设计的全部信息，并注明文件的数据格式。
5.布图设计结构、技术、功能简要说明：
简单的文字说明布图设计的结构、技术、功能和其他需要说明的事项。
6.涉及保密信息的申请
布图设计在申请日之前没有投入商业利用的，该布图设计登记申请可以有保密信息，其比例最多不得超过该集成电路布图设计总面积的50%。含有保密信息的图层的复制件或者图样页码编号及总页数应当与布图设计登记申请表中所填写的一致。
布图设计登记申请有保密信息的，含有该保密信息的图层的复制件或者图样纸件应当置于在另一个保密文档袋中提交。除侵权诉讼或者行政处理程序需要外，任何人不得查阅或者复制该保密信息。
7.集成电路样品
布图设计在申请日之前已投入商业利用的，申请登记时应当提交4件含有该布图设计的集成电路样品，并应当符合下列要求：
（一）所提交的4件集成电路样品应当置于能保证其不受损坏的专用器具中；
（二）器具表面应当写明申请人的姓名、申请号和集成电路名称；
（三）器具中的集成电路样品应当采用适当的方式固定，不得有损坏，并能够在干燥器中至少存放十年。
什么是专利